間歇反映時，構(gòu)成隨時隨地光座標而變更，換句話說，間歇體系無論在所有室內(nèi)空間座標內(nèi)是不是勻稱一致，但其構(gòu)成卻時刻都是在變更粉，自始至終當做到熱學平衡(或是到過程完畢)截止。持續(xù)反映的關(guān)鍵不一樣，是相對應的構(gòu)成變更造成于室內(nèi)空間座標上間歇反映時，構(gòu)成隨時隨地光座標而變更，換句話說，間歇體系無論在所有室內(nèi)空間座標內(nèi)是不是勻稱一致，但其構(gòu)成卻時刻都是在變更粉，自始至終當做到熱學平衡(或是到過程完畢)截止。持續(xù)反映的關(guān)鍵不一樣，是相對應的構(gòu)成變更造成于室內(nèi)空間座標上，在體系的一切部位，構(gòu)成一般不隨時隨地光而變，構(gòu)成的變更卻衰當時體系的這一部位跟那一部位中間，比如持續(xù)拌和加氫反應釜組的鄰近釜間，或列管式加氫反應釜的鄰近橫截面間。自然，這類歲月上趨向穩(wěn)定不會改變的體系，僅好用于穩(wěn)定投料速度跟穩(wěn)定移熱速度等場所。即使如此，反映體系也并不是一定做到相位系統(tǒng)情況，而在某些特例中，全部各種各樣原材料的濃度值很有可能在某一特殊值的相鄰一直地多少平穩(wěn)。這類清況很有可能造成在包括醉反映以內(nèi)的繁雜的自催化反應速度中，及其存有尤其熱特性的反映中。

務必強調(diào)，就算做到了相位系統(tǒng)情況，但也不是一種平衡，“平衡”這一術(shù)語，某些用在封閉式體系處在不隨時隨地光而變的狀春。對外開放體系的相位系統(tǒng)情況，比如持續(xù)加氫反應釜，在于流動性實體模型、化學反應速率及其加氫反應釜尺寸等要素。一般，務必在發(fā)展商品成品率跟為了更好地生產(chǎn)制造所搖而擴大加氫反應釜項目投資中間，開展經(jīng)濟發(fā)展上的考量。